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啟方半導(dǎo)體基于二代0.13微米嵌入式閃存技術(shù)的汽車半導(dǎo)體工藝即將量產(chǎn)

2021-04-06 09:00 14000
韓國唯一一家純晶圓代工公司啟方半導(dǎo)體(Key Foundry) 今天宣布,該公司已成功開發(fā)出基于第二代0.13微米嵌入式閃存技術(shù)的汽車半導(dǎo)體工藝,年內(nèi)就將全面投入量產(chǎn)。

韓國首爾2021年4月6日 /美通社/ --  韓國唯一一家純晶圓代工公司啟方半導(dǎo)體(Key Foundry) 今天宣布,該公司已成功開發(fā)出面向汽車半導(dǎo)體應(yīng)用的第二代0.13微米嵌入式閃存工藝,年內(nèi)就將全面投入量產(chǎn)。

五年多來,啟方半導(dǎo)體借助第一代0.13微米嵌入式閃存技術(shù),不斷推進(jìn)微控制器(MCU)、 觸控(Touch)和自動對焦(Auto Focus)等各種消費類應(yīng)用產(chǎn)品的量產(chǎn)。最新開發(fā)出的第二代0.13微米嵌入式閃存工藝適用于汽車 零配件,完全符合AEC-Q100可靠性1級標(biāo)準(zhǔn)。AEC-Q100是一項針對汽車應(yīng)用的集成電路(IC) 可靠性測試認(rèn)證。要獲得1級認(rèn)證,該IC產(chǎn)品必須在高達(dá)125攝氏度的極端溫度下,正常運轉(zhuǎn)10年以上,同時還要確保所有閃存的數(shù)據(jù)完好無損。憑借其深厚的專業(yè)積累,以及取得專利的側(cè)壁選擇性晶體管單元(SSTC)結(jié)構(gòu)所突顯的強大特性,啟方半導(dǎo)體將糾錯碼(ECC)內(nèi)存添加到嵌入式閃存IP中,成功開發(fā)出一種嵌入式閃存技術(shù),并通過了各項AEC-Q100 1級測試。這種設(shè)計上的改進(jìn)提高了該技術(shù)的閃存可靠性,成為汽車 電子應(yīng)用的理想之選。

啟方半導(dǎo)體的一家韓國客戶率先將這項新工藝應(yīng)用交通收費應(yīng)答器的MCU產(chǎn)品上。啟方半導(dǎo)體自行設(shè)計的128Kbyte eFlash IP已嵌入這款通過產(chǎn)品級別測試的產(chǎn)品,今年啟動全面量產(chǎn)。這是第一款采用啟方半導(dǎo)體嵌入式閃存工藝的汽車應(yīng)用產(chǎn)品。據(jù)該公司預(yù)計,該產(chǎn)品的成功開發(fā)將有助于把這項技術(shù)的應(yīng)用范圍擴展到觸控IC、無線充電IC和其他各種汽車產(chǎn)品。

與第一代工藝相比,第二代技術(shù)在可靠性和成本競爭力上均有明顯提升,預(yù)計將廣泛應(yīng)用于包括MCU、觸控和自動對焦在內(nèi)的各種消費類應(yīng)用。此外,在與BCD工藝(雙極型-互補金屬氧化物半導(dǎo)體-雙擴散金屬氧化物半導(dǎo)體工藝)相集成后,為各類電源產(chǎn)品帶來了合適的解決方案,例如USB Type-C PD(USB C型電源通信協(xié)議)、電機驅(qū)動IC或無線充電IC等。第二代技術(shù)的應(yīng)用場景有望進(jìn)一步擴大到具有超低漏電工藝選項的低功耗物聯(lián)網(wǎng)產(chǎn)品。

繼0.13微米的第一代和第二代技術(shù)之后,啟方半導(dǎo)體目前正在開發(fā)0.11微米嵌入式閃存工藝。為了滿足客戶日益追求更高存儲密度的需求,該公司打算大幅縮小閃存單元的尺寸,打造出存儲密度高達(dá)4Mbits的閃存IP。

啟方半導(dǎo)體首席執(zhí)行官李泰鐘博士(Tae Jong Lee)表示:“首款使用第二代0.13微米嵌入式閃存技術(shù)的產(chǎn)品已經(jīng)開發(fā)完成,即將投入量產(chǎn)。我們將充分利用我們積累的技術(shù)優(yōu)勢來提供高度可靠且具有成本競爭力的代工服務(wù),并繼續(xù)提高汽車半導(dǎo)體在我們產(chǎn)品組合中的比例?!?/p>

消息來源:Key Foundry
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