韓國(guó)首爾2021年6月9日 /美通社/ -- 今日,三星宣布開發(fā)新一代“8納米射頻(RF)工藝技術(shù)”,強(qiáng)化5G通信芯片的解決方案。
這種先進(jìn)的制造技術(shù)支持5G通信的多通道和多天線芯片設(shè)計(jì),期待為5G通信提供“單芯片的解決方案(One Chip Solution)”。三星的8nm RF平臺(tái)擴(kuò)展計(jì)劃,有望增強(qiáng)從Sub-6GHz到毫米波(mmWave)應(yīng)用的5G半導(dǎo)體代工市場(chǎng)地位。
三星8nm RF是從已有28nm,14nm RF代工解決方案拓展的新一代工藝技術(shù)。自2017年至今,三星以高端智能手機(jī)為主,已生產(chǎn)了超過(guò)5億顆的RF 芯片,在RF芯片代工市場(chǎng)擁有了一席之地。
“通過(guò)技術(shù)創(chuàng)新和制造工藝的精益求精,我們推出了下一代無(wú)線通信的代工技術(shù)方案,”三星電子代工技術(shù)開發(fā)團(tuán)隊(duì)負(fù)責(zé)人Hyung Jin Lee表示,“隨著5G毫米波的應(yīng)用擴(kuò)大,三星的8nm RF技術(shù)為客戶提供更好的解決方案,滿足客戶不斷提升的用戶體驗(yàn),在小的芯片上提供更長(zhǎng)的電池使用時(shí)間,高質(zhì)量的通信信號(hào)?!?/p>
三星新一代RFeFET? 器件結(jié)構(gòu)
RF芯片把接受的射頻信號(hào)轉(zhuǎn)換數(shù)字信號(hào)用于數(shù)字處理,把處理后的數(shù)字信號(hào)轉(zhuǎn)換為射頻信號(hào)用于發(fā)射。RF工藝技術(shù)中,模擬/RF器件性能和數(shù)字器件性能都非常重要。
隨著半導(dǎo)體工藝節(jié)點(diǎn)的縮微,數(shù)字電路在性能,功耗和面積上都有顯著改善,然而模擬/RF 模塊由于寄生特性難以縮微。由于線寬較窄,導(dǎo)致電阻增加,RF信號(hào)放大性能減弱,功耗增加,RF芯片整體性能下降。
為了克服模擬/RF電路在工藝縮微時(shí)的技術(shù)挑戰(zhàn),三星開發(fā)了一種名為“RFeFET?(RF extremeFET)”的獨(dú)特RF器件結(jié)構(gòu),新的結(jié)構(gòu)只在8nm RF平臺(tái)上提供,新的RF器件使用小的功率就能提升RF性能。與此前的14nm工藝相比,三星“RFeFET?(RF extremeFET)”可以幫忙數(shù)字電路的縮微,同時(shí)提升模擬/RF性能,提供高性能的5G技術(shù)平臺(tái)。
工藝優(yōu)化包括增加電子遷移率,降低寄生參數(shù)。由于RFeFET?的性能的提升,射頻芯片中晶體管的總數(shù)可以減少,模擬電路的面積可以減少。
由于三星“RFeFET?(RF extremeFET)”的創(chuàng)新,與此前的14nm工藝相比,三星的8nm RF工藝可減少約35%的射頻芯片面積,且能效也有約35%的提升。
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