北京2016年7月11日電 /美通社/ -- 自18世紀在德國被發(fā)明以來，被稱為“數(shù)字曝光”的打印方法經(jīng)歷了一段很長的發(fā)展歷程。今天，數(shù)字曝光可以在多種表面上打印文字和圖片，包括書本和T恤。近日，TI的DLP® 高速數(shù)字微鏡器件（DMD）為那些對精度要求達到微米級的直接成像數(shù)字曝光開發(fā)人員提供了一個強大工具，從而能夠在批量生產情況下實現(xiàn)快速曝光，以及更低的運營成本。
這項打印技術的變化也不斷地激發(fā)出新的創(chuàng)新。被稱為“直接成像數(shù)字曝光”的技術被設計人員用來快速、輕松地“打印”多種電子產品，所使用的方法是將感光材料暴露在紫外光（UV）之下。
現(xiàn)在，直接成像數(shù)字曝光可被用于制作印刷電路板（PCB）、球柵陣列（BGA）、芯片尺寸封裝（CSP）、平板顯示、實時條形碼標刻，以及計算機直接制版印刷 -- 這項打印工藝可直接將一副數(shù)字圖像從計算機發(fā)送至一塊印板上。
與傳統(tǒng)數(shù)字曝光技術相比，直接成像數(shù)字曝光的優(yōu)勢有很多，其中包括更高的材料靈活性、更低的成本和更快的打印速度。
由TI實現(xiàn)的直接成像數(shù)字曝光
通過使用可編程光控制的 DLP 技術，開發(fā)人員可以將圖形直接曝光在光阻膠片上，而無需接觸掩膜，這樣做降低了材料成本，提高了生產率，并且可實現(xiàn)圖形的快速變化，使得這項技術非常適用于最小外形尺寸需要兩次曝光的情況。
TI 高度靈活的芯片組架構還提供多系統(tǒng)控制和連通性選項，諸如針對電機同步、傳感器和其它外設的觸發(fā)器。
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進一步了解數(shù)字曝光
我們有多款適用于數(shù)字曝光應用的 DLP 數(shù)字微鏡器件。DLP6500FLQ、DLP7000、DLP9000、和 DLP9500 芯片系列全都支持低至400納米的波長。最近，我們在ti.com上推出了 DLP7000UV 和 DLP9500UV，以支持低至363納米的波長。
TI 提供針對所有這些 DMD 的評估模塊產品庫，以及針對數(shù)字曝光的輔助性 TI Designs參考設計，其中包括電路原理圖、布局布線文件、物料清單和一份測試報告。
TI Design 特有一塊系統(tǒng)級的 DLP 開發(fā)板，由于集成了 DLP9000X -- 由超過4百萬個微鏡制成的、擁有較高分辨率的 DLP 數(shù)字微鏡器件，該開發(fā)板具有較大的數(shù)據(jù)吞吐量；這塊開發(fā)板還裝備有我們速度較快的數(shù)字控制器，即支持每秒高達60千兆像素數(shù)據(jù)速率的 DLPC910。DLPC910數(shù)字控制器還為設計人員提供了高級像素控制，在全幀輸入功能的基礎上，支持隨機行尋址。
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